[实用新型]镀膜基板及镀膜设备有效
| 申请号： | 201220040591.1 | 申请日： | 2012-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN202423273U | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 张尚明 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/67;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型属于显示技术领域，特别是涉及便于基板边缘识别的镀膜基板及镀膜设备。本实用新型镀膜设备包括靶材和基板夹具位于靶材的下方，基板夹具包括上夹板和下托板；上夹板和下托板之间有压力调节装置，用于调节上夹板和下托板夹紧基板的压力。通过调节上夹板与基板之间的压力，使所镀膜层边缘截面呈斜坡形，斜坡的长度大于800μm。降低了膜层边缘的厚度梯度，使透过膜层边缘的光亮度梯度发生显著变化，区别于基板边缘透过的光亮度梯度，进而提高了基板边缘识别率。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种镀膜基板，在基板上覆盖有膜层，其特征在于，所述膜层的边缘截面呈斜坡形，斜坡的长度大于800μm。
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