[实用新型]一种磁控溅射靶与磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201220066723.8 | 申请日： | 2012-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN202786406U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 陈岩;杜晓健;高博 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射靶，包括背板及设置在背板的靶材，所述靶材下方设有突起部，用以防止突起部对应的靶材部分被击穿，在所述背板的朝向所述靶材的表面上设有凹槽，所述凹槽与所述靶材上设置的突起部相匹配。本实用新型通过改变背板的设计结构，采用对应靶材突起部设计的带有凹槽的异型背板，可以有效提高溅射过程中靶材的利用率，延长靶材寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶，包括背板及设置在背板的靶材，其特征在于，所述靶材下方设有突起部，用以防止突起部对应的靶材部分被击穿，在所述背板的朝向所述靶材的表面上设有凹槽，所述凹槽与所述靶材上设置的突起部相匹配。
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