[实用新型]一种PECVD的沉积装置及其沉积槽用锁紧装置有效
申请号: | 201220157146.3 | 申请日: | 2012-04-13 |
公开(公告)号: | CN202543319U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 孙双庆;杜颖涛;李江超 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种PECVD的沉积槽用锁紧装置,用于将沉积槽固定于托架上,该锁紧装置包括:第一锁件;和用于贯穿沉积槽的侧壁的第二锁件,第二锁件包括用于与托架固定相连的固定端和用于外伸于沉积槽的自由端,第二锁件的自由端开设有用于夹住第一锁件的紧固槽。本实用新型提供的PECVD的沉积槽用锁紧装置,拆卸和安装沉积槽的过程较简单、快捷,与现有技术将多个螺丝和螺母拆除和安装相比,减少了工作人员的工作量,进而减少了拆卸和安装沉积槽所需的时间,提高了工作效率。本实用新型还提供了一种具有上述PECVD的沉积槽用锁紧装置的PECVD的沉积装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 沉积 装置 及其 槽用锁紧 | ||
【主权项】:
一种PECVD的沉积槽用锁紧装置,用于将所述沉积槽(7)固定于托架(2)上,其特征在于,包括:第一锁件(6);和用于贯穿所述沉积槽(7)的侧壁的第二锁件(4),所述第二锁件(4)包括用于与所述托架(2)固定相连的固定端和用于外伸于所述沉积槽(7)的自由端,所述第二锁件(4)的自由端开设有用于夹住所述第一锁件(6)的紧固槽(41)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的