[实用新型]可扩展的反应腔室有效
| 申请号： | 201220172713.2 | 申请日： | 2012-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN202610318U | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 彭文芳;李春雷;常青;克雷格·伯考 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可扩展的反应腔室，涉及机械设计技术领域，所述反应腔室包括：前门板和后门板，所述前门板和后门板之间设有至少一个模块化腔室。本实用新型通过在前门板、后门板和所述前门板和后门板之间设有的至少一个模块化腔室上设置法兰结构，使反应腔室能够扩展，实现了在不需重新设计反应腔室的情况下，提高设备生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 扩展 反应 | ||
【主权项】：
一种可扩展的反应腔室，其特征在于，所述反应腔室包括：前门板和后门板，所述前门板和后门板之间设有至少一个模块化腔室。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
