[实用新型]防静电光罩运输装置有效
申请号: | 201220200134.4 | 申请日: | 2012-05-04 |
公开(公告)号: | CN202758165U | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | 倪立华;许青峰;杨立华;李炯 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;G03F7/20;B62B3/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陆花 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体运输设备,尤其涉及一种用于洁净室的移动式防静电光罩运输装置,包括带有车轮及扶手的车体、光罩放置盒、挡板、电源接口、指示灯以及去离子装置,所述去离子装置采用若干去离子风机,所述去离子风机设于所述车体的顶部,所述光罩放置盒设于所述车体内部,所述挡板设于所述光罩放置盒外侧并与所述车体连接。本实用新型采用吹风式去离子方法,环境适应性强,离子发生量大,除静电速度快,实现装置内部全方位去离子效果,以确保在运输光罩经过没有进行静电防护的区域时光罩不被静电损坏。 | ||
搜索关键词: | 静电 运输 装置 | ||
【主权项】:
一种防静电光罩运输装置,包括带有车轮及扶手的车体、光罩放置盒、挡板、电源接口、指示灯以及去离子装置,其特征在于,所述去离子装置采用若干去离子风机,所述去离子风机设于所述车体的顶部,所述光罩放置盒设于所述车体内部,所述挡板设于所述光罩放置盒外侧并与所述车体连接。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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