[实用新型]研磨抛光机托盘有效

专利信息
申请号: 201220243125.3 申请日: 2012-05-28
公开(公告)号: CN202592206U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 杨宇红;蒋罗雄;刘宏 申请(专利权)人: 湖南宇晶机器股份有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34;B24B55/06
代理公司: 益阳市银城专利事务所 43107 代理人: 舒斌
地址: 413001 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型公开了一种减少托盘斜面积砂,防止托盘砂液泄漏的研磨抛光机托盘,其特征是所述托盘(2)的表面为斜面(1),其高度从圆心至圆周逐渐由高到低,斜面(1)的倾斜角度为8°~15°,斜面(1)上均布有10个~15个导流脚(7),所述导流脚(7)的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片,圆弧叶片的切向方向与托盘(2)的旋转方向同向,本实用新型结构简单,采用挡液罩和防尘圈,防止了砂液的泄漏,延长了机器的使用寿命,同时,减小了托盘的斜面坡度,降低整机高度和重心高度,增强机器的刚性和稳定性,降低成本。
搜索关键词: 研磨 抛光机 托盘
【主权项】:
一种研磨抛光机托盘,其特征是所述托盘(2)的表面为斜面(1),其高度从圆心至圆周逐渐由高到低,斜面(1)的倾斜角度为8°~15°,斜面(1)上均布有10个~15个导流脚(7),所述导流脚(7)的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片,圆弧叶片的切向方向与托盘(2)的旋转方向同向。
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