[实用新型]一种聚能工业级微波炉腔有效
申请号: | 201220284681.5 | 申请日: | 2012-06-15 |
公开(公告)号: | CN202735155U | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 王斌;江成德 | 申请(专利权)人: | 上海屹尧仪器科技发展有限公司 |
主分类号: | G01N1/44 | 分类号: | G01N1/44 |
代理公司: | 上海三和万国知识产权代理事务所 31230 | 代理人: | 蔡海淳 |
地址: | 201108 上海市闵行区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种聚能工业级微波炉腔,属分析装置领域。其包括腔体和波导口,其所述的腔体由上顶面、下底面、左侧面、右侧面、前侧面和后侧面六个面构成,在所述的下底面上放置有样品,其特征是:在所述的上顶面或下底面与至少一个所述侧面之间的交界处,设置辅助反射斜面;所述的辅助反射斜面,朝向下底面上放置有样品的区域;所述的辅助反射斜面,为平面、曲面或弧形面。其能将腔体内的微波场强聚焦集中在腔体底部或指定区域,并在腔体底部或指定区域中均匀分布,以便均匀加热位于炉腔底部或指定区域的所有样品。可广泛用于工业级微波仪器之微波炉腔的设计、制造领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 工业 微波炉 | ||
【主权项】:
一种聚能工业级微波炉腔,包括腔体和波导口,其所述的腔体由上顶面、下底面、左侧面、右侧面、前侧面和后侧面6个面构成,在所述的下底面上放置有样品,其特征是: 在所述的上顶面与至少一个所述侧面之间的交界处,设置辅助反射斜面; 所述的辅助反射斜面,朝向下底面上放置有样品的区域; 所述的辅助反射斜面,为平面、曲面或弧形面。
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