[实用新型]一种用于真空镀膜设备的双层密封结构

摘要

本实用新型涉及一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，包括真空泵，真空泵通过真空管道与法兰上泄气孔8连接，其特征在于：它由内层密封圈3、外层密封圈4以及密封法兰1和光面法兰2组成，密封法兰1密封面上开有密封槽6，内层密封圈3和外层密封圈4嵌于密封槽6内；两密封圈间开有泄气槽7，法兰体上开有一泄气孔8，泄气槽7通过泄气孔8以及真空管道与真空泵相连，通过真空泵可以把两密封圈间的气体排出，形成真空，提高密封效果。两密封圈在螺栓力或者重力和压差力的作用下压紧光面法兰2，形成双层密封。本实用新型能够实现真空腔体的可靠的密封；同时，本实用新型具有结构简单，使用寿命长，易于安装、拆卸的优点。

主权项

一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，包括密封法兰(1)、光面法兰(2)、 内层密封圈(3)、外层密封圈(4)、支架(5)、密封槽(6)、泄气槽(7)、泄气孔(8)和真空泵，其特征在于所述密封法兰(1)的密封面上开设有密封槽(6)，密封槽(6)内设有内层密封圈(3)和外层密封圈(4)，内层密封圈(3)和外层密封圈(4)之间开设有泄气槽(7)，泄气槽(7)上设有泄气孔(8) ，泄气槽(7)通过泄气孔(8)连接真空管道一端，真空管道另一端连接真空泵。