[实用新型]一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机有效
申请号: | 201220362016.3 | 申请日: | 2012-07-25 |
公开(公告)号: | CN202839710U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 王虎;姚琪;陆波;邱小永 | 申请(专利权)人: | 浙江贝盛光伏股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/306 |
代理公司: | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 | 代理人: | 裴金华 |
地址: | 313000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型属于晶体硅太阳能电池片湿法刻蚀生产制造领域,具体涉及一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机。湿法刻蚀机包括刻蚀机台和设置于刻蚀机台上用于传送硅片的滚轮,所述刻蚀机台上方设置有喷水装置,所述刻蚀机台上方位于喷水装置与硅片传送方向相反的一侧设置有喷雾装置,所述喷雾装置喷出的雾滴覆盖硅片表面。所述喷雾装置包括连接板和设置于连接板上的喷头。硅片在刻蚀机台上经滚轮传送过程中,先经过喷雾装置,对硅片表面进行喷淋雾滴,雾滴附着在硅片表面,再经喷水装置喷淋水膜,利用雾状液滴对硅片表面有较强吸附力,以及雾滴可以降低水流在硅片表面张力的原理,可以使水膜在硅片表面完全覆盖。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 喷雾 功能 湿法 刻蚀 | ||
【主权项】:
一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机,所述湿法刻蚀机包括刻蚀机台和设置于刻蚀机台上用于传送硅片(1)的滚轮(2),所述刻蚀机台上方设置有喷水装置(3),其特征在于:所述刻蚀机台上方位于喷水装置(3)与硅片(1)传送方向相反的一侧设置有喷雾装置(4),所述喷雾装置(4)喷出的雾滴覆盖硅片(1)表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的