[实用新型]曝光对位系统

摘要

本实用新型公开了一种曝光对位系统，用于印制电路板晒架，该系统包括：底片偏差感应模块，用于上底片、下底片之间的第一位置偏差；底片对位模块，用于根据所述第一位置偏差确定底片移动值，进行所述上底片、所述下底片的对位；锁定模块，用于将对位完成的所述上底片、所述下底片进行位置锁定；覆铜箔板偏差感应模块，用于确定所述覆铜箔板与所述上底片或所述下底片之间的第二位置偏差；覆铜箔板对位模块，用于根据所述第二位置偏差驱动所述覆铜箔板进行所述覆铜箔板与所述上底片、所述下底片的对位。该系统能够简化对位操作。

主权项

一种曝光对位系统，用于印制电路板晒架，其特征在于，该系统包括： 底片偏差感应模块，用于感应放入所述晒架中的上底片和下底片的对位靶点位置，确定所述上底片、下底片之间的第一位置偏差； 底片对位模块，用于根据所述第一位置偏差确定底片移动值，根据所述底片移动值，以所述上底片和所述下底片其中之一为基准驱动另一个进行所述上底片、所述下底片的对位； 锁定模块，用于将对位完成的所述上底片、所述下底片进行位置锁定； 覆铜箔板偏差感应模块，用于感应放入被位置锁定的所述上底片和所述下底片之间的覆铜箔板的对位靶点位置，确定所述覆铜箔板与所述上底片或所述下底片之间的第二位置偏差； 覆铜箔板对位模块，用于根据所述第二位置偏差确定覆铜箔板移动值，根据所述覆铜箔板移动值，以所述上底片或所述下底片为基准，驱动所述覆铜箔板进行所述覆铜箔板与所述上底片、所述下底片的对位。