[实用新型]真空蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 201220403488.9 申请日: 2012-08-15
公开(公告)号: CN202786404U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 冈田利幸;藤本惠美子;大工博之 申请(专利权)人: 日立造船株式会社
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/14
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 李雪春;武玉琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型提供一种真空蒸镀装置,能缩短直到开始蒸发为止的时间,坩埚不会因局部加热而破损,能形成均匀的蒸镀膜。该真空蒸镀装置(1)包括:真空蒸镀用的坩埚(4),收容金属蒸镀材料(3);以及加热装置(5),使坩埚(4)中收容的蒸镀材料(3)熔融并蒸发。坩埚(4)内部的中央部具有柱状的突出部(44),加热装置5具有从背面侧加热突出部(44)的主加热器(51),以及从外侧加热坩埚(4)的内周面(43)的副加热器(52),利用主加热器(51)蒸发的蒸镀材料(3)的量多于利用副加热器(52)蒸发的蒸镀材料(3)的量。
搜索关键词: 真空 装置
【主权项】:
一种真空蒸镀装置,包括:真空蒸镀用的坩埚,收容金属蒸镀材料;以及加热装置,使所述坩埚中收容的蒸镀材料熔融并蒸发,所述真空蒸镀装置的特征在于,所述坩埚内部的中央部具备柱状的突出部,所述加热装置包括:主加热器,从背面侧加热所述突出部;以及副加热器,从外侧加热所述坩埚的内周面,利用所述主加热器蒸发的蒸镀材料的量多于利用所述副加热器蒸发的蒸镀材料的量。
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