[实用新型]一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒有效
申请号: | 201220445178.3 | 申请日: | 2012-09-03 |
公开(公告)号: | CN202771895U | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 倪图强;张亦涛;徐朝阳;陈妙娟 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01F17/04 | 分类号: | H01F17/04;H01J37/32 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒,其中,所述真空处理装置包括一腔室,在腔室的下方包括一容纳有若干射频滤波器的射频滤波器盒,所述射频滤波器至少包括一圆环状铁氧体,所述铁氧体上缠绕有线圈。其中,所述若干射频滤波器两两重叠放置,在两个所述射频滤波器之间还放置有绝缘块,其中,所述绝缘块的两个表平面分别接触于该两个射频滤波器的一表平面。本实用新型提供能够极大地节省真空处理装置中的空间。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 处理 装置 及其 射频 滤波器 | ||
【主权项】:
一种用于真空处理装置的射频滤波器,其中,所述真空处理装置包括一腔室,在腔室的下方包括一容纳有若干射频滤波器的射频滤波器盒,所述射频滤波器至少包括一圆环状铁氧体,所述铁氧体上缠绕有线圈,其特征在于:所述若干射频滤波器两两重叠放置,在两个所述射频滤波器之间还放置有绝缘块,其中,所述绝缘块的两个表平面分别接触于该两个射频滤波器的一表平面。
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