[实用新型]一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒有效

专利信息
申请号: 201220445178.3 申请日: 2012-09-03
公开(公告)号: CN202771895U 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 倪图强;张亦涛;徐朝阳;陈妙娟 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: H01F17/04 分类号: H01F17/04;H01J37/32
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 王洁
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供了一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒,其中,所述真空处理装置包括一腔室,在腔室的下方包括一容纳有若干射频滤波器的射频滤波器盒,所述射频滤波器至少包括一圆环状铁氧体,所述铁氧体上缠绕有线圈。其中,所述若干射频滤波器两两重叠放置,在两个所述射频滤波器之间还放置有绝缘块,其中,所述绝缘块的两个表平面分别接触于该两个射频滤波器的一表平面。本实用新型提供能够极大地节省真空处理装置中的空间。
搜索关键词: 一种 真空 处理 装置 及其 射频 滤波器
【主权项】:
一种用于真空处理装置的射频滤波器,其中,所述真空处理装置包括一腔室,在腔室的下方包括一容纳有若干射频滤波器的射频滤波器盒,所述射频滤波器至少包括一圆环状铁氧体,所述铁氧体上缠绕有线圈,其特征在于:所述若干射频滤波器两两重叠放置,在两个所述射频滤波器之间还放置有绝缘块,其中,所述绝缘块的两个表平面分别接触于该两个射频滤波器的一表平面。
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