[实用新型]测距器及化学气相沉积设备有效
| 申请号： | 201220520655.8 | 申请日： | 2012-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN202836460U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 李建华;刘祥杰 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G01B5/14 | 分类号： | G01B5/14;G01B1/00;C23C16/52 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提出一种测距器及化学气相沉积设备，其有益效果主要体现在：测距器内体和外体顶端间的高度差可以通过内体和外体的卡位部件相互配合，被很好地维持住，从而能够提高测距器测得的两物体之间的距离精度，如化学气相沉积设备中喷淋头和加热器，减少测量误差；并且内与外体之间的复位弹簧可以使得测距器复位，方便多次测量。 | ||
| 搜索关键词： | 测距器 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种测距器，其特征在于，包括： 一外体，所述外体带有一空腔，内壁上设有卡位部件； 一内体，外表面设有与所述外体卡位部件的相匹配的卡位部件，所述内体下端通过外表面的卡位部件卡接所述外体卡位部件固定在所述空腔的内部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220520655.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种平面度的检测工具
- 下一篇：电机输出轴轴向间隙检测装置
