[实用新型]薄膜形成装置有效
| 申请号： | 201220540309.6 | 申请日： | 2012-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN202898521U | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 渡边健;青山贵昭;冈田胜久;盐野一郎;宫内充祐;长江亦周 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林;王小东 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种薄膜形成装置，其能够抑制由于蒸镀材料的粒子通过基板支架保持部件（3）的外周部和真空槽（1）的内壁面之间的间隙（S）而导致真空槽（1）内被污染这一情况。真空蒸镀装置（100）具备：真空槽（1）；蒸镀机构（4），其收纳在真空槽（1）内；和基板支架保持部件（3），其在比蒸镀机构（4）靠上方的位置收纳在真空槽（1）内，在所述真空蒸镀装置（100）中，在基板支架保持部件（3）的外周部和真空槽（1）的内壁面之间的间隙（S）内，配置有从基板支架保持部件（3）的外周部向真空槽（1）的内壁面延伸出的密封部（5）。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜形成装置，其具备：真空槽；蒸镀机构，其收纳在该真空槽内；和基板保持部件，其在比所述蒸镀机构靠上方的位置收纳在所述真空槽内，所述薄膜形成装置的特征在于，在所述基板保持部件的外周部和所述真空槽的内壁面之间的间隙内，配置有从所述基板保持部件外周部向所述真空槽内壁面延伸出的密封部。
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