[实用新型]一种LPCVD系统有效
申请号: | 201220694865.9 | 申请日: | 2012-12-14 |
公开(公告)号: | CN202936478U | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 彭侃;吴国发 | 申请(专利权)人: | 汉能新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 101407 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种LPCVD系统,具体地讲是涉及一种多片同时镀膜的LPCVD系统。该系统包括装载台、预热腔、工艺腔、冷却腔、卸载台、回传模块以及依次通过上述各部件的传输系统,该传输系统上设有用于同时放置若干片玻璃基板的传输垫板,传输垫板的四周边缘设有挡边条,挡边条以内紧贴挡边条的传输垫板表面以及每片玻璃基板放置处之间的传输垫板表面设有凹槽。本实用新型的系统结构和工艺简单,能够支持多片玻璃基板同时镀膜,大幅降低生产和维护成本,成倍提高了生产效率;同时减少玻璃破碎的机率,即使玻璃破碎也不用开盖维护,避免打乱生产节拍,维持了正常生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 lpcvd 系统 | ||
【主权项】:
一种LPCVD系统,包括装载台、预热腔、工艺腔、冷却腔、卸载台、回传模块以及依次通过上述各部件的传输系统,其特征在于该传输系统上设有用于同时放置若干片玻璃基板的传输垫板,传输垫板的四周边缘设有挡边条,挡边条以内紧贴挡边条的传输垫板表面以及每片玻璃基板放置处之间的传输垫板表面设有凹槽。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的