[发明专利]等离子处理装置有效
申请号: | 201280006986.2 | 申请日: | 2012-02-02 |
公开(公告)号: | CN103459651A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 胜俣和彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36;C21D1/09;C21D1/773;F27D11/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美红;杨楷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种在真空炉(1)内部对由金属材料构成的被处理物(X)进行通过等离子的表面改性的等离子处理装置(S1),等离子处理装置(S1)具备能够在真空炉(1)内部移动的可动式供电装置(14、15)。 | ||
搜索关键词: | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子处理装置,在真空炉内部,对由金属材料构成的被处理物进行通过等离子的表面改性,其特征在于,具备:第1供电装置,对上述被处理物外加第1电压;和第2供电装置,对相对于上述被处理物对置配置的金属体外加与上述第1电压不同的第2电压;上述第1供电装置及上述第2供电装置的至少任一方由可动式供电装置构成,所述可动式供电装置能够在上述真空炉内部移动。
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