[发明专利]高分子材料的评价方法有效
| 申请号： | 201280008199.1 | 申请日： | 2012-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN103348236A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 中村智;黑谷雄司;田边龙朗;五十岚贵亮 | 申请（专利权）人： | 株式会社普利司通 |
| 主分类号： | G01N23/225 | 分类号： | G01N23/225;G01N1/28;G01N33/44 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供高分子材料的评价方法，由此高分子材料中的填料的分散状态可被快速并定量地评价。一种高分子材料的评价方法，所述高分子材料包含高分子化合物和填料并且具有平滑表面至少作为其上表面。通过使用聚焦离子束(FIB)(10)，沿相对于高分子材料的表面为1至60°角(α)的方向切割高分子材料(1)。然后，从垂直于平滑表面的方向摄取高分子材料的平滑表面(1A)的图像，所述平滑表面(1A)通过切割而形成。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子材料 评价 方法 | ||
【主权项】：
一种高分子材料的评价方法，所述高分子材料包含高分子化合物和填料，至少所述高分子材料的上表面为平坦的表面，所述方法包括：使用聚焦离子束沿相对于所述高分子材料的上表面为1至60°角的方向切割所述高分子材料的上表面；然后沿垂直于通过所述切割形成的所述高分子材料的平滑表面的方向拍摄所述平滑表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社普利司通，未经株式会社普利司通许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280008199.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光学元件及其制造方法
- 下一篇：用于提供LED照明的系统、方法和/或装置
