[发明专利]被膜形成用组合物无效

专利信息
申请号: 201280015372.0 申请日: 2012-04-04
公开(公告)号: CN103443223A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 秋永惠一;大川直;西岛一裕;北浦英二 申请(专利权)人: 道康宁东丽株式会社
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;B32B27/00;C09D7/12;C09D183/05;F28F13/18
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 高瑜;郑霞
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 使用含有(A)有机烷氧基硅烷、(B)含有硅原子键合氢原子的有机聚硅氧烷、以及(C)缩合反应触媒的被膜形成用组合物,对基体实施表面处理。该被膜形成用组合物可形成具有高疏水性且具备充分水滑性能的斥水性被膜,能够提供具备高疏水性的基体,例如散热器。
搜索关键词: 形成 组合
【主权项】:
一种被膜形成用组合物,其含有:(A)有机烷氧基硅烷、(B)含有硅原子键合氢原子的有机聚硅氧烷、以及(C)缩合反应触媒。
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