[发明专利]被膜形成用组合物无效
申请号: | 201280015372.0 | 申请日: | 2012-04-04 |
公开(公告)号: | CN103443223A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 秋永惠一;大川直;西岛一裕;北浦英二 | 申请(专利权)人: | 道康宁东丽株式会社 |
主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04;B32B27/00;C09D7/12;C09D183/05;F28F13/18 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 高瑜;郑霞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 使用含有(A)有机烷氧基硅烷、(B)含有硅原子键合氢原子的有机聚硅氧烷、以及(C)缩合反应触媒的被膜形成用组合物,对基体实施表面处理。该被膜形成用组合物可形成具有高疏水性且具备充分水滑性能的斥水性被膜,能够提供具备高疏水性的基体,例如散热器。 | ||
搜索关键词: | 形成 组合 | ||
【主权项】:
一种被膜形成用组合物,其含有:(A)有机烷氧基硅烷、(B)含有硅原子键合氢原子的有机聚硅氧烷、以及(C)缩合反应触媒。
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C09 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接