[发明专利]接合结构体无效
申请号: | 201280015910.6 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN103493190A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 中村太一;北浦秀敏 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L21/52 | 分类号: | H01L21/52;B23K35/14;H05K3/34 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种接合结构体,其具备:基板的电极;半导体元件的电极;和将基板的电极与半导体元件的电极之间接合的接合层,接合层从基板的电极朝向半导体元件的电极依次配置有:包含CuSn系的金属间化合物的第一金属间化合物层;Bi层;包含CuSn系的金属间化合物的第二金属间化合物层;Cu层;和包含CuSn系的金属间化合物的第三金属间化合物层。 | ||
搜索关键词: | 接合 结构 | ||
【主权项】:
一种接合结构体,其具备:基板的电极;半导体元件的电极;和将所述基板的电极与所述半导体元件的电极之间接合的接合层,所述接合层从所述基板的电极朝向所述半导体元件的电极依次配置有:包含CuSn系的金属间化合物的第一金属间化合物层;Bi层;包含CuSn系的金属间化合物的第二金属间化合物层;Cu层;和包含CuSn系的金属间化合物的第三金属间化合物层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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