[发明专利]充电构件、充电构件的制造方法、电子照相设备和处理盒有效
申请号: | 201280020838.6 | 申请日: | 2012-04-24 |
公开(公告)号: | CN103502896A | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
发明(设计)人: | 儿玉真隆;黑田纪明;铃村典子;友水雄也;益启贵 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/02 | 分类号: | G03G15/02;C08G77/22;F16C13/00 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供几乎不发生清洁不良的充电构件,结果,抑制由电子照相设备产生的图像中纵条纹的形成。所述充电构件包含支承体、弹性层和表面层。所述表面层包含具有选自Si-O-M键和Si-O-Ta键的至少一种键、选自M-O-Ge键和Ta-O-Ge键的至少一种键以及Si-O-Ge键的高分子化合物。M为选自由Ti、Zr和Hf组成的组的元素。该高分子化合物具有由式(1)和(2)表示的结构单元以及由式(3)和/或(4)表示的结构单元。所述充电构件具有从它的表面延伸到所述弹性层的龟裂,并且该龟裂的边缘凸起。结果,使充电构件的表面粗糙。式(1) |
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搜索关键词: | 充电 构件 制造 方法 电子 照相 设备 处理 | ||
【主权项】:
1.一种充电构件,其包含:支承体,弹性层,和表面层,其中:所述表面层包含具有如下键的高分子化合物:选自Si-O-M键和Si-O-Ta键的至少一种键,选自M-O-Ge键和Ta-O-Ge键的至少一种键,和Si-O-Ge键;所述高分子化合物具有由下式(1)表示的结构单元,由下式(2)表示的结构单元,和选自由下式(3)表示的结构单元和由下式(4)表示的结构单元的至少一种结构单元,并且所述充电构件具有从其表面延伸到所述弹性层的龟裂,并且所述龟裂具有凸状隆起的边缘,由此使所述充电构件的表面粗糙,条件是M表示选自由Ti、Zr和Hf组成的组的任意元素:式(1)
在式(1)中,R1和R2各自独立地表示下式(5)至(8)中的任何一个:式(5)
式(6)
式(7)
式(8)
在式(5)至(8)中,R3至R7、R10至R14、R19、R20、R25和R26各自独立地表示氢原子、具有1个以上且4个以下碳原子的烷基、羟基、羧基或者氨基,R8、R9、R15至R18、R23、R24和R29至R32各自独立地表示氢原子或者具有1个以上且4个以下碳原子的烷基,R21、R22、R27和R28各自独立地表示氢原子、具有1个以上且4个以下碳原子的烷氧基或者具有1个以上且4个以下碳原子的烷基,n、m、l、q、s和t各自独立地表示1以上且8以下的整数,p和r各自独立地表示4以上且12以下的整数,x和y各自独立地表示0或者1,并且*和**分别表示键合到式(1)中的硅原子和氧原子的位置:式(2)Ge04/2式(3)MO4/2式(4)Ta05/2在式(3)中,M表示选自由Ti、Zr和Hf组成的组的任意元素。
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