[发明专利]发光分析装置有效

专利信息
申请号: 201280024650.9 申请日: 2012-05-22
公开(公告)号: CN103562435A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 山下真希;水河启美 申请(专利权)人: 株式会社CREV
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52;C23C16/50;G01J3/02;G01J3/28;G01N21/67;H01L21/205;H05H1/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 安香子;黄剑锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发光分析装置具备:作为第1光强度计算部的一例的等离子光强度计算部(120),通过将由分光计测器(200)计测的表示容器内的每个波长的光强度的分光光谱利用多项式近似,计算容器内的每个波长的光强度;作为第2光强度计算部的一例的分子光强度计算部(130),通过按每个波长从由上述分光计测器(200)计测的上述分光光谱所表示的光强度减去上述第1光强度计算部计算出的光强度,计算与分子或原子的亮线光谱对应的光强度;以及比计算部(140),使用第2光强度计算部计算出的光强度,计算第1分子的分子光谱或第1原子的原子光谱的峰值与第2分子的分子光谱或第2原子的原子光谱的峰值之比。
搜索关键词: 发光 分析 装置
【主权项】:
一种发光分析装置,具备:第1光强度计算部,通过将由分光计测器计测出的表示容器内的每个波长的光强度的分光光谱利用多项式近似,计算上述容器内的每个波长的光强度;第2光强度计算部,通过按每个波长从由上述分光计测器计测出的上述分光光谱所表示的光强度减去上述第1光强度计算部计算出的光强度,计算与分子或原子的亮线光谱对应的光强度;以及比计算部,使用上述第2光强度计算部计算出的光强度,计算第1分子的分子光谱或第1原子的原子光谱的峰值与第2分子的分子光谱或第2原子的原子光谱的峰值之比。
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