[发明专利]沉积方法及装置有效
申请号: | 201280030857.7 | 申请日: | 2012-06-06 |
公开(公告)号: | CN103620086B | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | M.朗;M.格斯多夫 | 申请(专利权)人: | 艾克斯特朗欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 任宇 |
地址: | 德国黑*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明首先涉及一种在基底(11)上沉积由有机原始材料构成的层的方法,其中,将有机原始材料作为形式为载气流中的悬浮粒子的气溶胶送入蒸发器(1),所述悬浮粒子从而在该蒸发器内与由温控装置加热的传热面(15)接触并在经过一段亦与该传热面(15)的温度有关的平均停留时间后蒸发,其中,以该载气为输出气流将由此产生的蒸气自该蒸发器(1)送入处理室(10),该蒸气在该处理室内于该基底(11)表面发生冷凝并形成层。为了减小气溶胶蒸发所产生的蒸气随时间的波动率,本发明提出如下解决方案改变该传热面(15)的温度以响应所产生蒸气在该输出气流内随时间的质量流量变化(c)。本发明还涉及一种用于蒸发由载气流输送的有机悬浮粒子的装置及一种用于沉积OLED的装置。 | ||
搜索关键词: | 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种将由有机原始材料构成的层沉积于基底(11)上的方法,其中,将有机原始材料在蒸发器(1)内通过与由温控装置加热的传热面(15)的接触而以一个也与所述传热面(15)的温度有关的每单位时间质量进行蒸发,其中,将由此产生的蒸气由作为输出气流的载气自该蒸发器(1)送入处理室(10)中,所述蒸气在所述处理室内于所述基底(11)的表面上发生冷凝并形成层,其中,通过传感器(13)测量在输出气流中所产生的蒸汽并且改变所述传热面(15)的温度以响应所产生蒸气在该输出气流内随时间的质量流量变化,其特征在于,将有机原始材料作为悬浮粒子形式的气溶胶在作为输入气流的载气气流中作为随时间变化的质量流量送入所述蒸发器,并且在所述蒸发器内作为未蒸发原始材料在其与所述传热面(15)的温度有关的所述蒸发器(1)内的平均停留时间内形成缓冲质量,其中,所述质量流量随时间的波动补偿的方式是,通过提高温度在秒或次秒范围内的第一时间段内增大离开所述蒸发器(1)的已蒸发的原始材料质量流量并且通过降低温度在所述第一时间段内减小离开所述蒸发器(1)的已蒸发原始材料质量流量,但在相当于第一时间段的十倍并且为若干秒范围内的第二时间段内使每单位时间进入所述蒸发器(1)中的质量流量等于离开所述蒸发器(1)的质量流量。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的