[发明专利]镀膜装置有效
| 申请号： | 201280031817.4 | 申请日： | 2012-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN103635604A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 梶原雄二;安松保志;小长和也 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 秦振 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 发明提供一种镀膜装置，其构造成可以减少靶材间的污染的发生。该镀膜装置包括：多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件；其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向外周侧扩大。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种镀膜装置，包括：多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件；其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向外周侧扩大。
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