[发明专利]被曝光基板的定位校正方法及曝光装置有效
| 申请号： | 201280037975.0 | 申请日： | 2012-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN103733138A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 野村义昭;新井敏成 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明进行以下的步骤：为了检测到在将在输送方向A上被输送来的被曝光基板1的定位的偏移，检测出在被曝光基板（1）上预先规定的第1观测点（14）和第2观测点（15）的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点（14）和第2观测点（15）预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出校正量对之后被曝光的被曝光基板（1）的定位进行校正的定位校正步骤。由此，能够使之后被曝光的被曝光基板的定位精确度得以提高。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 定位 校正 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种被曝光基板的定位校正方法，其是在将通过输送单元在输送方向上被输送的被曝光基板依次曝光时，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，具有以下的步骤：为了对在所述输送单元上被输送来的被曝光基板的定位偏移进行观测，检测出在被曝光基板上预先规定的第1观测点和第2观测点的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点和第2观测点预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出的校正量对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正的定位校正步骤。
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