[发明专利]曝光装置和限制液体的方法有效
| 申请号： | 201280040882.3 | 申请日： | 2012-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN103748519A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 长坂博之 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置具备，配置在该曝光用光光路(K)周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙(W1)对向、在与物体的上面之间保持液体(LQ)的第1面(310)的第1构件(30)；相对光路配置在第1面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面(61)的第2构件(60)；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体(LB)的第1供应口(64)；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面间的间隙(W2)吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体(Ga)的至少一部分的第1吸引口(33)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 限制 液体 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，通过液体以曝光用光使基板曝光，具备：第1构件，配置在所述曝光用光光路周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙对向、在与所述物体的上面之间保持所述液体的第1面；第2构件，相对所述光路配置在所述第1面的外侧，具有所述物体的上面隔着第2间隙对向的第2面；第1供应口，相对所述光路配置在所述第2面的外侧，用以供应流体；以及第1吸引口，配置在所述第1面与所述第2面之间，通过所述第2面与所述物体上面之间的间隙吸引相对所述光路在所述第2构件外侧空间的气体的至少一部分。
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