[发明专利]用于处理塑料基底的方法及用于处理溶液的至少部分再生的装置

摘要

本发明涉及一种用于以包括高锰酸盐的处理溶液来处理塑料零件的方法，其中处理溶液中的碳酸盐化合物的浓度通过冻结和随后的过滤而从处理溶液移除碳酸盐化合物从而设定成小于200g/l的值，其中处理溶液包括高锰酸钠。本发明还涉及一种通过减小用于实施如此方法的处理溶液中包括的碳酸盐化合物的浓度来使包括高锰酸盐的处理溶液至少部分再生的装置，该处理溶液用于塑料零件的处理和/或蚀刻，其中该装置包括至少一个冷却槽，冷却槽将经受待再生的处理溶液，且展示了用于使碳酸盐化合物与处理溶液分离的下游过滤装置；以及还涉及用于实施如此方法的如此装置的使用。

主权项

一种用于以包括高锰酸盐的处理溶液来处理尤其是蚀刻塑料零件尤其是印刷电路板和印刷电路箔片的方法，其特征在于，所述处理溶液中的碳酸盐化合物的浓度通过冻结和随后过滤来从所述处理溶液移除碳酸盐化合物从而设定成小于200g/l的值，优选为30g/l至150g/l的值，更优选为50g/l至100g/l的值，其中所述处理溶液包括高锰酸钠。