[发明专利]钯-金合金气体分离膜体系的制备方法有效
| 申请号： | 201280052245.8 | 申请日： | 2012-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103889549A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | N·E·珀金斯二世;J·C·索凯蒂斯 | 申请（专利权）人： | 国际壳牌研究有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22;B01D69/12;B01D71/02;B01D67/00;C01B3/50 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在涂有金属间扩散阻挡层的多孔基底上制备包含金-钯合金膜的钯-金合金气体分离膜系统的方法。所述方法包括将所述钯的表面粗糙度增加至所需范围的研磨步骤、使用氯金酸(AuCl4H)和过氧化氢的溶液的镀金步骤、然后退火以产生钯-金合金膜。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 气体 分离 体系 制备 方法 | ||
【主权项】：
制备金‑钯合金气体分离膜系统的方法，所述方法包括：提供平均表面粗糙度(Sa)小于0.8微米的钯层；用研磨介质研磨所述钯层，以将所述表面粗糙度增加到平均表面粗糙度(Sa)超过0.8微米；将所述研磨过的钯表面与包含氯金酸或其盐和过氧化氢的溶液接触足以在所述钯层上沉积金层的一段时间，和；退火所述钯和金层以产生所述钯‑金合金气体分离膜。
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