[发明专利]用于调整半导体晶体管的驱动电流的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201280052476.9 申请日: 2012-10-24
公开(公告)号: CN103891144B 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 杨志坚;王平川;冯凯棣;爱德华·J·小浩斯泰特 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H03K17/30 分类号: H03K17/30;H03K17/687
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 申发振
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了用于修复晶体管的方法和装置,包括:给PFET的源极施加第一电压,给PFET的栅极施加第二电压,以及给PFET的漏极施加第三电压达预定时间。其中第一电压大于第二电压,并且第二电压大于第三电压。本发明人已经确定,通过施加这些电压,被捕获于栅极电介质内的空穴将会减少。以此方式,可以修复半导体结构或者使其恢复至或接近最初的操作特性。另一种实施例是通过给NFET的漏极施加第一电压、给NFET的栅极施加第二电压以及给NFET的源极施加第三电压达预定时间来修复NFET晶体管的方法和装置。第一电压大于第二电压,而第二电压大于第三电压。如同在第一实施例中所示出的,本发明的目的是修复晶体管。在NFET的情形中,电子在正常的操作期间聚积于栅极电介质上。通过按照所描述的方式来施加电压,可以修复晶体管以使其在处于或接近于最初的规范下操作。
搜索关键词: 用于 调整 半导体 晶体管 驱动 电流 方法 装置
【主权项】:
一种用于修复晶体管的方法,包括:给PFET(300)的源极(304)施加第一电压达第一预定时间;给所述PFET(300)的栅极(302)施加第二电压达所述第一预定时间;以及给所述PFET的漏极(306)施加第三电压达所述第一预定时间,其中所述第一电压大于所述第二电压,而所述第二电压大于所述第三电压,并且其中所述第一电压与所述第二电压之间的电压差在0与所述PFET(300)的电压阈值之间。
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