[发明专利]用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件有效
| 申请号： | 201280055044.3 | 申请日： | 2012-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN103930590A | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | F·沙佩;D·孔特 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C16/448 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 白皎 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个将所述光学涂层液体合成物引入到其内的坩埚；其中所述支持件(30)进一步包括一个形成封套的框架(36，37)，所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内；所述框架(36，37)具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物，并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件(30)构成光学涂层液体合成物的一个匣。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 通过 蒸发 处理 光学 涂层 液体 合成物 沉积 物品 支持 | ||
【主权项】：
用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个坩埚(35；135)和被引入到所述坩埚(35；135)内的一种光学涂层液体合成物(34；134)；其中所述支持件(30；130)进一步包括一个形成了封套的框架(36，37；136，137)，所述坩埚(35；135)和所述光学涂层液体合成物(34；134)被包裹在该封套内；所述框架(36，37；136，137)具有一个内部空间(45，51；145，151)并且被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)具有的内部压力(P)低于一个预先确定的压力阈值(Pth)时气密地密封所述坩埚(35；135)和所述光学涂层液体合成物(34；134)，并且被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)的所述内部压力(P)大于所述预先确定的压力阈值(Pth)时使所述光学涂层液体合成物(34；134)的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件(30；130)构成光学涂层液体合成物(34；134)的一个匣。
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