[发明专利]光学体、窗材料、隔断构件、日射遮蔽装置及建筑物有效
申请号: | 201280058678.4 | 申请日: | 2012-08-24 |
公开(公告)号: | CN103988101B | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 长浜勉;涉谷笃史 | 申请(专利权)人: | 迪睿合电子材料有限公司 |
主分类号: | G02B5/26 | 分类号: | G02B5/26;B32B7/02;E06B9/24;G02B5/08;G02B5/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 光学体具备:在表面设有凹凸面的光学层;以及设在凹凸面上的波长选择反射层。波长选择反射层选择性地定向反射特定波长带的光,而透射特定波长带以外的光。凹凸面具备沿光学层的表面内的第1方向延伸的多个第1构造体和沿光学层的表面内的第2方向延伸并隔开而设置的多个第2构造体,第1方向与第2方向交叉。 | ||
搜索关键词: | 光学 材料 隔断 构件 日射 遮蔽 装置 建筑物 | ||
【主权项】:
一种光学体,具备:在表面设有凹凸面的光学层;以及设在所述凹凸面上的波长选择反射层,所述波长选择反射层选择性地定向反射特定波长带的光,而透射所述特定波长带以外的光,所述凹凸面具备沿所述光学层的表面内的第1方向延伸的多个第1构造体,和沿所述光学层的表面内的第2方向延伸并隔开而设置的多个第2构造体,在将以所述光学层的表面为基准的第1构造体、第2构造体的高度分别设为H1、H2的情况下,所述第1构造体的高度H1及所述第2构造体的高度H2满足H2>H1的关系,所述第1方向与所述第2方向处于交叉的关系。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪睿合电子材料有限公司,未经迪睿合电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280058678.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。