[发明专利]阻气膜和阻气膜的制造方法有效
申请号: | 201280058784.2 | 申请日: | 2012-11-27 |
公开(公告)号: | CN103958183A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 永绳智史;铃木悠太 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;苗堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供能够得到优异的阻气性、并且具有极优异的透明性等的阻气膜和这种阻气膜的有效的制造方法。一种在基材上具备阻气层的阻气膜和这种阻气膜的制造方法,阻气层从表面侧向基材侧具有折射率不同的第1区域和第2区域,第1区域中的折射率为1.50~1.68的范围内的值,并且,第2区域中的折射率为1.40以上且小于1.50的范围内的值。 | ||
搜索关键词: | 阻气膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种阻气膜,其特征在于,是在基材上具备阻气层的阻气膜,所述阻气层是向聚硅氮烷层注入离子而形成的,将阻气层的与基材相接的面设为基材侧,将其相反的面设为表面侧时,所述阻气层从表面侧向基材侧具有折射率不同的第1区域和第2区域,所述第1区域中的折射率为1.50~1.68的范围内的值,并且,所述第2区域中的折射率为1.40以上且小于1.50的范围内的值。
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