[发明专利]光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 201280061667.1 | 申请日： | 2012-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN104011594B | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 尹赫敏;吕泰勋;李相勋;金珍善;尹柱豹;金东明;金镇祐;朴璟镇;李善熙;黄致容 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/075;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 朱健 |
| 地址： | 韩国仁川市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更为详细地讲，涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂组合物，其常温稳定性优良、变色少且透射率优良，从而即便省略HMDS工序，也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：(a)丙烯酸类共聚物10～30重量％，该丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物聚合而制造且重量平均分子量为4,000～9,000；(b)在末端基含有异氰酸酯基(‑NCO)的硅烷偶联剂0.1～2重量％；(c)感光剂1～15重量％；以及，(d)剩余量的溶剂。
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