[发明专利]侧排型基板处理装置

摘要

根据本发明的一个实施方式，一种基板处理装置包括：腔室本体，该腔室本体的上部打开，并且在该腔室本体中提供一内部空间，在该内部空间中对于基板进行处理；腔室盖，该腔室盖安装在腔室本体上并且用于关闭该腔室本体的上部；以及喷洒头，该喷洒头安装在腔室盖的下方并且用于朝向该内部空间供应处理气体，其中所述腔室本体包括：至少一个会聚口，该会聚口沿着侧壁布置中内部上并且用于会聚内部空间内的气体；多个内部排气孔，这多个内部排气孔形成在所述侧壁上并且用于允许所述会聚口及所述内部空间之间的连通；以及多个内部排气口，这多个内部排气口连接至所述会聚口。

主权项

一种基板处理装置，该基板处理装置包括：腔室本体，该腔室本体具有打开的上侧，该腔室本体提供一内部空间，在该内部空间中对于基板进行处理；腔室盖，该腔室盖布置在所述腔室本体的上部，以关闭所述腔室本体的所述打开的上侧；以及喷洒头，该喷洒头布置在所述腔室盖的下部，以朝向所述内部空间供应处理气体，其中，所述腔室本体包括：至少一个会聚口，该会聚口沿着所述腔室本体的侧壁的内侧布置，以允许所述内部空间内的处理气体会聚；多个内部排气孔，这多个内部排气孔沿着所述腔室本体的所述侧壁限定，以与所述会聚口及所述内部空间连通；以及多个内部排气口，这多个内部排气口连接至所述会聚口，其中，根据与所述内部排气口的相隔距离，所述内部排气孔具有彼此不同的直径；该基板处理装置还包括布置于所述会聚口上的分配环，该分配环具有多个分配孔；并且所述分配孔分别布置在所述内部排气孔之间。