[发明专利]用于溅射沉积的微型可旋转式溅射装置有效
申请号: | 201280071216.6 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN104160471B | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | T·德皮施;F·施纳朋伯格;A·洛珀;A·弗洛克;G·格里施 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/34 | 分类号: | H01J37/34;H01J37/32 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 黄嵩泉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明描述用于在腹板上沉积沉积材料的沉积设备及方法。沉积设备包括界定第一可旋转式溅射装置的第一轴的第一溅射装置支撑件、界定第二可旋转式溅射装置的第二轴的第二溅射装置支撑件及涂覆窗。第一溅射装置支撑件及第二溅射装置支撑件经调适成支撑第一可旋转式溅射装置及第二可旋转式溅射装置以在涂覆鼓上提供待沉积于腹板上的沉积材料的至少一组分。此外,第一轴与第二轴之间的距离小于200mm。 | ||
搜索关键词: | 用于 溅射 沉积 微型 旋转 装置 | ||
【主权项】:
一种用于在腹板上沉积沉积材料的沉积设备,所述沉积设备包含:界定第一可旋转式溅射装置的第一轴的第一溅射装置支撑件、界定第二可旋转式溅射装置的第二轴的第二溅射装置支撑件、用于导向待涂覆的所述腹板的涂覆鼓及涂覆窗,其中所述涂覆窗界定在腹板平面内且提供在200mm至250mm之间的宽度,其中所述第一溅射装置支撑件及所述第二溅射装置支撑件经调适成支撑所述第一可旋转式溅射装置及所述第二可旋转式溅射装置以在涂覆鼓上提供待沉积于所述腹板上的所述沉积材料的至少一组分,且其中所述第一溅射装置支撑件及所述第二溅射装置支撑件经调适成对于一个涂覆窗提供所述第一溅射装置支撑件上的仅一个第一可旋转式溅射装置及所述第二溅射装置支撑件上的仅一个第二可旋转式溅射装置,且其中,所述第一轴与所述第二轴之间的距离小于200mm。
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