[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

摘要

基板处理装置(1)具有：基板保持单元(5)，其将基板保持为水平姿势；板(8)，其具有水平且平坦的液体保持面(11)，所述液体保持面(11)具有与被所述基板保持单元(5)保持的基板的主面相同或比该主面大的大小，且与所述基板的主面的下方相向；处理液供给单元(20)，其用于向所述液体保持面(5)供给处理液；移动单元(29)，其使所述基板保持单元(5)以及所述板(8)相对移动，来使基板的主面与液体保持面接近或分离；控制单元(50)。控制单元(50)控制所述处理液供给单元(20)以及所述移动单元(29)，执行通过所述处理液供给单元(20)向所述液体保持面(11)供给处理液，在所述液体保持面上形成处理液液膜的处理液液膜形成工序、通过所述移动单元(29)使所述基板的主面与所述液体保持面(11)接近，由此使基板的主面与所述处理液液膜接触的接触工序、在执行所述接触工序后维持处理液与所述基板的主面接触的状态的接触维持工序。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，其将基板保持为水平姿势；板，其具有水平且平坦的液体保持面，所述液体保持面具有与被所述基板保持单元保持的基板的主面相同或比该主面大的大小，且与所述基板的主面的下方相向；处理液供给单元，其用于向所述液体保持面供给处理液；移动单元，其使所述基板保持单元以及所述板相对移动，来使所述基板的主面与所述液体保持面接近或分离；控制单元，其控制所述处理液供给单元以及所述移动单元，执行处理液液膜形成工序、接触工序和接触维持工序，在所述处理液液膜形成工序中，通过所述处理液供给单元向所述液体保持面供给处理液，在所述液体保持面上形成处理液液膜，在所述接触工序中，通过所述移动单元使所述基板的主面与所述液体保持面接近，来使基板的主面与所述处理液液膜接触，所述接触维持工序在所述接触工序后执行，在所述接触维持工序中，维持处理液与所述基板的主面接触的状态。