[发明专利]形成密集间距图案的方法有效
| 申请号： | 201310015562.9 | 申请日： | 2013-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103631094A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 吴俊伟 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/76 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 发明提供了一种形成密集间距图案的方法。首先提供一目标图案包含多个第一条状图案，第一条状图案具有一第一宽度以及一第一长度。接着提供一光掩膜具有多个第二条状图案对应于第一条状图案，其中第二条状图案具有一第二宽度以及一第二长度。然后在一曝光系统中利用光掩膜进行一第一曝光工艺，第一曝光工艺使用一第一光源，其可以解析出第二条状图案的第二宽度。最后在曝光系统中利用光掩膜进行一第二曝光工艺，第二曝光工艺使用一第二光源，其不能解析出第二条状图案的第二宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 密集 间距 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种形成密集间距图案的方法，其特征在于，包含：提供一目标图案，其中所述目标图案包含多个第一条状图案，所述第一条状图案具有一第一宽度以及一第一长度；提供一光掩膜，其具有多个第二条状图案对应于各所述第一条状图案，其中各所述第二条状图案具有一第二宽度以及一第二长度；在一曝光系统中利用所述光掩膜进行一第一曝光工艺，其中所述第一曝光工艺使用一第一光源，所述第一光源可以解析出所述第二条状图案的所述第二宽度；以及在所述曝光系统中利用所述光掩膜进行一第二曝光工艺，其中所述第二曝光工艺使用一第二光源，所述第二光源不能解析出所述第二条状图案的所述第二宽度。
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