[发明专利]掺杂剂含量低的多晶硅块材有效
申请号: | 201310027483.X | 申请日: | 2013-01-24 |
公开(公告)号: | CN103213988A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | H·沃赫纳;A·基林格;R·佩赫 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C01B33/02 | 分类号: | C01B33/02;C30B29/06;G01N33/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李振东;过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及掺杂剂含量低的多晶硅块材,其中在表面上,硼的浓度为1至50ppta,磷的浓度为1至50ppta。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 含量 多晶 硅块材 | ||
【主权项】:
多晶硅块材,其中在表面上,硼的浓度为1至50ppta,磷的浓度为1至50ppta。
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