[发明专利]像素结构、阵列基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201310031970.3 | 申请日： | 2013-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN103163704A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 曾勉;金在光;涂志中;尹傛俊 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 230011 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种像素结构，所述像素结构的公共电极包括第一公共电极和第二公共电极；所述第一公共电极与栅极扫描线同层但不相连；所述第二公共电极与数据电极同层但不相连。所述阵列基板为采用本发明像素结构的阵列基板。本发明又一方面提供了具有本发明像素结构的阵列基板的制造方法。本发明解决了现有技术存在的为了增加存储电容提高画面稳定系而必须降低开口率等问题，同时解决了现有技术的液晶面板内公共电压不均匀而造成的液晶面板的Greenish不良现象。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 结构 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种像素结构，其特征在于：所述像素结构的公共电极包括第一公共电极和第二公共电极；所述第一公共电极与栅极扫描线同层但不相连；所述第二公共电极与数据电极同层但不相连。
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