[发明专利]半导体装置及其制法在审

专利信息
申请号: 201310046666.6 申请日: 2013-02-05
公开(公告)号: CN103928433A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 林长甫;蔡和易;姚进财;洪静慧 申请(专利权)人: 矽品精密工业股份有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L21/48;H01L21/60
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种半导体装置及其制法,该半导体装置包括:基板,其具有基板本体与导电线路,该导电线路形成于该基板本体上并具有容置空间;导电材,形成于该容置空间内并电性连接该导电线路;以及半导体组件,其设置于该基板上,该半导体组件具有电性连接垫与导电体,该导电体形成于该电性连接垫上并电性连接该导电材。由此,本发明可避免相邻的导电体间产生焊料桥接的情形,并改善该导电体与该导电材间的对位能力,进而提升该半导体装置的效能。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制法
【主权项】:
一种半导体装置,包括:基板,其具有基板本体与导电线路,该导电线路形成于该基板本体上,该导电线路并具有容置空间;导电材,其形成于该容置空间内,并电性连接该导电线路;以及半导体组件,其设置于该基板上,并具有电性连接垫与导电体,该导电体形成于该电性连接垫上并电性连接该导电材。
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