[发明专利]一种TiNi合金表面制备金刚石涂层的方法有效
| 申请号： | 201310055603.7 | 申请日： | 2013-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN103147063A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 贺志勇;王振霞;于盛旺;申艳艳;赵远涛;宁来元;金腾 | 申请（专利权）人： | 太原理工大学 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C14/16;C23C14/32;C23C28/00 |
| 代理公司： | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人： | 朱源 |
| 地址： | 030024 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种TiNi合金表面制备金刚石涂层的方法，属于TiNi合金表面沉积金刚石薄膜的方法，解决TiNi合金由于Ni含量较高无法生长金刚石的问题。包括以下步骤：利用双层辉光离子渗金属方法在TiNi合金表面渗钼，然后利用化学气相沉积方法进行金刚石薄膜沉积，使TiNi合金表面形成金刚石薄膜/渗钼层复合涂层。本发明将双层辉光离子渗金属技术和化学气相沉积镀技术有机结合，工艺重复性好，质量易控，操作简单，所制得的成品性能良好，金刚石薄膜能够与基体有良好的结合强度，并获得基体有效的支撑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tini 合金 表面 制备 金刚石 涂层 方法 | ||
【主权项】：
一种TiNi合金表面制备金刚石涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：利用双层辉光离子渗金属方法在TiNi合金表面渗钼，然后利用化学气相沉积方法进行金刚石薄膜沉积，使TiNi合金表面形成金刚石薄膜/渗钼层复合涂层，即得成品。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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