[发明专利]基于二联杂环并吡咯基团的近红外氟硼二吡咯化合物及其制法和用途无效
申请号: | 201310059474.9 | 申请日: | 2013-02-26 |
公开(公告)号: | CN103183697A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 沈珍;杨永超 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02;C09B57/00;C09K11/06;A61K49/00;A61K41/00;A61P35/00 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 黄嘉栋 |
地址: | 210093 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一类基于二联噻吩并吡咯基团的近红外氟硼二吡咯化合物(BODIPY),它有如下结构:其中取代基M、N、P、E、F、M’、N’、P’、E’或F’=H或Br。本发明首次合成了二联噻吩并吡咯为母体的大共轭的BODIPY光敏剂,两个噻吩基团的引入使得这类光敏剂的吸收光谱红移到了680-720nm,发射峰716n-750nm,处于生物窗口的范围内(650-900nm),同时该染料的荧光量子效率较高。另外该光敏剂在溶液中的摩尔吸光系数高达200000M-1cm-1。而且,两个噻吩基团中的S是重原子,这就使得该光敏剂的三重态效率增大了,进而提高了其产生单线态氧的效率,因此,它在生物成像和光动力治疗方面有着诱人的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 基于 二联 吡咯 基团 红外 氟硼二 化合物 及其 制法 用途 | ||
【主权项】:
1.一类基于二联杂环并吡咯基团的近红外氟硼二吡咯化合物,其特征是:它有如下结构:其中取代基M、N、P、E、F、M’、N’、P’、E’、F’取自下列五组定义中任一组:1.M=T=P=E=F=M’=T’=P’=E’=F’=H;2.M=M’=Br;T=P=E=F=T’=P’=E’=F’=H;3.M=M’=E=Br;T=P=F=T’=P’=E’=F’=H;4.M=M’=F=F’=Br;T=P=E=T’=P’=E’=H;5.M=T=P=E=M’=T’=P’=E’=Br;F=F’=H。
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