[发明专利]液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法无效
| 申请号： | 201310061254.X | 申请日： | 2010-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN103135365A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 泷优介 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法，该液浸构件(6)，是以液体(LQ)充满照射于物体的曝光用光(EL)的光路(K)的方式在与前述物体之间保持液体(LQ)以形成液浸空间(LS)。液浸构件(6)，于与液体(LQ)接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。通过本发明，能够抑制曝光不良的产生，从而能抑制不良元件的产生及生产性的降低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 构件 制造 方法 曝光 装置 元件 | ||
【主权项】：
一种液浸构件，是以液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与所述物体之间保持所述液体以形成液浸空间，其特征在于：在与所述液体接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。
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