[发明专利]等离子体边界限制器单元和用于处理基板的设备有效
| 申请号： | 201310061470.4 | 申请日： | 2013-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN103295867A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 具一教;沈铉宗 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 杨生平;钟锦舜 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及等离子体边界限制器单元和用于处理基板的设备。提供了一种用于处理基板的设备。该设备包括设置在处理室内以围绕在支撑单元上面限定的排放空间的等离子体边界限制器单元。该等离子体边界限制器单元包括沿着排放空间的圆周设置的多个板，所述多个板沿着排放空间的圆周相互间隔开，使得排放空间内的气体通过在相邻板之间提供的通道而流到排放空间外面。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 边界 限制器 单元 用于 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种用于处理基板的设备，该设备包括：处理室，其具有开口，基板通过该开口被加载或卸载，该处理室包括用于打开或关闭开口的门组件；支撑单元，其被设置在处理室内以支撑基板；气体供应单元，其用于向处理室中供应处理气体；等离子体生成单元，其用于从处理气体生成等离子体；以及等离子体边界限制器单元，其被设置在处理室内以围绕在支撑单元上面限定的排放空间，该等离子体边界限制器单元使从排放空间泄漏的等离子体最小化，其中所述等离子体边界限制器单元包括沿着排放空间的圆周设置的多个板；以及所述多个板沿着排放空间的圆周被相互间隔开，使得排放空间内的气体通过在相邻板之间提供的通道而流到排放空间外面。
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