[发明专利]一种标准逻辑工艺兼容的差分架构NVM存储器单元无效

专利信息
申请号: 201310090971.5 申请日: 2013-03-21
公开(公告)号: CN103137201A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 李力南;翁宇飞;王子欧 申请(专利权)人: 苏州宽温电子科技有限公司
主分类号: G11C16/06 分类号: G11C16/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种标准逻辑工艺兼容的差分架构NVM存储器单元,由两个单一NVM存储单元连接辅以偏置的电源和输入输出电路组成,所述单一NVM存储单元为浮栅型架构,包括在浮栅上的充当选通以及偏置作用的选择晶体管、编程晶体管和以电容接法与编程晶体管栅极共享的控制晶体管。本发明采用差分架构,减小管子尺寸,表面上管子的数目增加了一倍,整体上对管子的要求降低,存储单元的面积变化不会很大,降低其工作电压,工作电压的降低必然使得功耗降低,稳定性得到明显改进,具有很重要的研究意义和广阔的市场前景。
搜索关键词: 一种 标准 逻辑 工艺 兼容 架构 nvm 存储器 单元
【主权项】:
一种标准逻辑工艺兼容的差分架构NVM存储器单元,其特征在于:由两个单一NVM存储单元连接辅以偏置的电源和输入输出电路组成,所述单一NVM存储单元为浮栅型架构,包括在浮栅上的充当选通以及偏置作用的选择晶体管、编程晶体管和以电容接法与编程晶体管栅极共享的控制晶体管。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州宽温电子科技有限公司,未经苏州宽温电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310090971.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top