[发明专利]一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术有效

专利信息
申请号: 201310093099.X 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN103245788A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 赵树民;鲍勇刚;石松传 申请(专利权)人: 赵树民
主分类号: G01N33/68 分类号: G01N33/68;C07K1/06;C07K1/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
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摘要: 发明是一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术,包括以下步骤:1)多肽芯片的合成,用半自动合成仪吸取足量的氨基酸活化溶液点印于纤维素膜上,进行多肽点合成反应;2)多肽侧链保护基团的去除;3)多肽芯片的杂交反应。本发明提供一种高密度、高通量、可同时检测上万个多肽相关相互作用的合成技术。本发明采用自控机器逐层氨基酸点膜技术进行多肽微阵列的化学合成。合成多肽微阵列可用于蛋白质间以及蛋白质与其它生物大分子间的相互作用研究,例如寻找抗体识别多肽序列、药物的作用靶位点、蛋白质相互作用位点、筛查特定疾病相关蛋白的抗原表位,建立与某种疾病相关的多肽数据库、探讨蛋白质构效关系及作用机理等。
搜索关键词: 一种 用于 细胞 抗原 表位筛查 多肽 阵列 合成 技术
【主权项】:
一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术,其特征在于,包括以下步骤:1)多肽芯片的合成,具体包括:1.1多肽微阵列芯片上的多肽合成:用半自动合成仪吸取足量的氨基酸活化溶液点印于纤维素膜上,进行多肽点合成反应;1.2多肽微阵列芯片合成中侧链钝化;1.3多肽微阵列芯片合成中每层Fmoc保护基团的去除;1.4多肽微阵列芯片合成过程中的染色;1.5重复1.2至1.4步骤继续合成多肽微阵列芯片,按照预先设定的程序,直至多肽合成完成;1.6将完成最后一层氨基酸合成的多肽微阵列芯片膜置于‑20℃冰箱保存或直接进行下一步反应;2)多肽侧链保护基团的去除;3)多肽芯片的杂交反应。
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