[发明专利]摩擦处理方法及光学膜的制造方法有效
| 申请号： | 201310099964.1 | 申请日： | 2013-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN103364997A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 直井博之 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可减少扬尘的摩擦处理方法及光学膜的制造方法。一种摩擦处理方法，其包括利用布材摩擦配向膜形成材料的表面的步骤，所述布材包括包含经线及纬线的底布组织、及织入该底布组织中的绒头纱线，且所述绒头纱线为具有海岛构造的纤维。 | ||
| 搜索关键词： | 摩擦 处理 方法 光学 制造 | ||
【主权项】：
一种摩擦处理方法，其用以对配向膜形成材料赋予配向性，其特征在于：包括利用布材摩擦所述配向膜形成材料的表面的步骤，所述布材包括包含经线及纬线的底布组织、以及织入所述底布组织中的绒头纱线，且所述绒头纱线为具有海岛构造的纤维。
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