[发明专利]通过原子层沉积形成的塑料基材阻挡层膜

摘要

本发明涉及通过原子层沉积形成的塑料基材阻挡层膜。具体地说，气体渗透阻挡层可通过原子层沉积法(ALD)沉积在塑料或玻璃基材上。ALD涂层的使用可在低浓度的涂层缺陷下，以数十纳米厚度降低许多量级的渗透率。这些薄涂层保护了塑料基材的柔韧性和透明性。这种制品可用于容器、电力和电子应用。

主权项

一种制品，包含：a)具有表面侧和底面侧的柔性聚合物基材，和b)在所述基材的所述表面侧和底面侧之一或两者上通过原子层沉积法沉积的厚度为2‑100纳米的气体渗透阻挡层，其中用于所述气体渗透阻挡层的材料选自元素周期表中IVB、VB、VIB、IIIA和IVA族的氧化物或氮化物以及它们的结合，且所述气体渗透阻挡层的结构是非结晶的和没有特征的。