[发明专利]蒸发源组件和薄膜沉积装置和薄膜沉积方法无效
| 申请号： | 201310111498.4 | 申请日： | 2013-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN104099571A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 林进志;周皓煜;黄俊允 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 刘春生;于宝庆 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸发源组件，用于向一基板上蒸镀薄膜，该蒸发源组件包括：本体，该本体包括包围一空腔的顶部构件、底部构件及侧壁，该底部构件设置有与该空腔连通的多个输入口；多个喷嘴，设置于该顶部构件上并与该空腔连通；多个蒸发器，每个蒸发器设置于该本体下方且对应一个输入口，每个该蒸发器包括开口部，该蒸发器通过该开口部与相应的输入口连通，该蒸发器用于容置并蒸发待蒸镀材料；多个连接管，用于分别连接该蒸发器的开口部与该本体的输入口，该连接管为上宽下窄的锥形管，用以加速蒸镀材料的蒸气在本体间的气氛平衡。本发明还提供一种薄膜沉积装置及薄膜沉积方法。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 组件 薄膜 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种蒸发源组件，用于向一基板上蒸镀薄膜，该蒸发源组件包括：本体，该本体包括包围一空腔的顶部构件、底部构件及侧壁，该底部构件设置有与该空腔连通的多个输入口；多个喷嘴，设置于该顶部构件上并与该空腔连通；多个蒸发器，每个蒸发器设置于该本体下方且对应一个输入口，每个该蒸发器包括开口部，该蒸发器通过该开口部与相应的输入口连通，该蒸发器用于容置并蒸发待蒸镀材料；多个连接管，用于分别连接该蒸发器的开口部与该本体的输入口，该连接管为上宽下窄的锥形管，用以加速蒸镀材料的蒸气在本体间的气氛平衡。
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