[发明专利]用于制造照射装置的方法和照射装置

摘要

一种制造照射装置的方法，在第一基板（10）上布置产生第一电磁射线（13）的第一射线源（12），在第一基板上在第一电磁射线的射线路径中这样布置用于使第一电磁射线转向的第一转向元件（16），即第一电磁射线在远离第一基板的方向上转向。提供第二基板（50），在预设的额定位置上设计第一耦合输出区域。测定第一耦合输出区域的实际位置。检测转向的第一电磁射线（17），由此能测定该第一电磁射线的射线路径。第一射线源和第一转向元件取决于第一耦合输出区域的测定的实际位置相对彼此和相对于第一基板这样在其上调整，即在第二基板布置在第一基板上的情况下，转向的第一电磁射线的射线路径延伸穿过第一耦合输出区域。第二基板布置在第一基板上。

主权项

1.一种用于制造照射装置的方法，其中-提供第一基板(10)，-在所述第一基板(10)上布置用于产生第一电磁射线(13)的第一射线源(12)，-在所述第一基板(10)上在所述第一电磁射线(13)的射线路径中这样布置用于使得所述第一电磁射线(13)转向的第一转向元件(16)，即，所述第一电磁射线(13)在远离所述第一基板(10)的方向上转向，-提供第二基板(50)，-在所述第二基板(50)中，在预设的额定位置上设计有第一耦合输出区域，-测定所述第一耦合输出区域的实际位置，-检测经过转向的第一电磁射线(17)，由此能测定经过转向的所述第一电磁射线(17)的射线路径，-所述第一射线源(12)和所述第一转向元件(16)取决于所述第一耦合输出区域的测定的所述实际位置相对彼此和相对于所述第一基板(10)这样在所述第一基板(10)上调整，即在所述第二基板(50)布置在所述第一基板(10)上的情况下，经过转向的所述第一电磁射线(17)的所述射线路径延伸穿过所述第一耦合输出区域，-将所述第二基板(50)布置在所述第一基板(10)上。