[发明专利]光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 201310116920.5 | 申请日： | 2013-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN103364850A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 古里大喜;星野悠太 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/04;H04N5/225 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法，其能够容易地在无机系材料的硬涂层上进行高品质的防反射层的成膜。该光学元件具备：在无机系的透光性基材的主面上设置的比透光性基材硬的硬涂层；和含有有机硅化合物、含环氧基有机化合物以及中空二氧化硅的在硬涂层的主面上设置的有机系防反射层。硬涂层与有机硅化合物和所述含环氧基有机化合物的至少任意一种为共价键合。由此能够防止在有机系防反射层上产生缺陷。有机系防反射层的防尘效果大于无机系的防反射层，异物或灰尘等难以附着。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 摄像 装置 电子设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学元件，其具备：无机系的透光性基材；设置在所述透光性基材的主面上的无机系硬涂层，其比所述透光性基材硬；设置在所述硬涂层的主面上的有机系防反射层，其含有有机硅化合物、含环氧基有机化合物以及中空二氧化硅；其中，所述硬涂层与所述有机硅化合物和所述含环氧基有机化合物的至少任意一种形成共价键结合。
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